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      全自動離子濺射儀的使用說明,就差你不知道了

    • 更新日期:2026-01-14?     瀏覽次數:1483
      •   全自動離子濺射儀是一種緊湊的臺式涂層系統,特別適用于掃描電子顯微鏡成像中非導電樣品的高質量涂層。樣品的干燥和清潔是離子濺射涂層的基本要求。如有必要,應在交換樣品和陰極的位置通過火花放電清潔樣品表面,然后在濺射涂層之前恢復樣品。鐵、鎳、銅和鉛常用作儀器的陰極材料。有時,電硬金、鉑、鈀、銦和其他金屬也可以用作陰極材料。
         

        全自動離子濺射儀

          

          全自動離子濺射儀的使用說明:
         
          1、一般來說,工作距離是可調節的。距離越近,濺射速度越快,但熱損傷會增加。
         
          2、通過控制真空壓力來實現離子電流的大小。真空度越低,I越大,濺射速度越快,原子晶粒越粗,電子轟擊樣品(陽極)產生的熱量越高;真空度越高,I越小,濺射速度越慢,原子晶粒越小,電子轟擊樣品產生的熱量也小。
         
          3、加速電壓固定可調。加速電壓越高,樣品的熱損傷越大。通常使用金屬靶的比例面積。
         
          4、一些熱敏樣品需要在樣品區冷卻、水冷或珀爾帖冷卻;磁控器件也可以像電磁透鏡一樣用于偏轉樣品中的電子。當然,在這種轉型之后,它將增加非常高的成本。你可以在蠟表面濺上一層金屬而不會造成任何損壞。
         
          5、真空中的雜質越多,涂層質量越差。通常,金相對穩定,空氣可以用作等離子體氣體源,而許多其他靶需要惰性氣體。
         
          6、氣體的原子序數越高,動量越大,濺射速度越快,但顆粒會更厚,連續膜會更厚。
         
          7、保持真空室的清潔對高質量的涂層非常有益。
         
          8、不要讓機械真空泵長時間保持極限真空,否則容易倒油。
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