全封閉顯影機(jī)

簡要描述：全封閉顯影機(jī)主要用于半導(dǎo)體制造中晶片的顯影工藝，性價比高，穩(wěn)定性好，重復(fù)性好，對顯影作業(yè)有非常理想的效果。設(shè)備配有一路顯影和一路水、一路氣吹功能，并且噴嘴位置可程控移動，實(shí)現(xiàn)自動顯影和清洗作業(yè)。

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　　全封閉顯影機(jī)優(yōu)勢

　　·全封閉式顯影，避免霧氣擴(kuò)散到外部，污染環(huán)境。

　　·外殼噴塑，耐腐蝕，易清洗。

　　·內(nèi)腔鍍特氟龍，光滑，耐腐蝕，易清洗。

　　·內(nèi)置真空過濾器，防止液體吸入真空泵。

　　·真空壓力可調(diào)，壓力值實(shí)時顯示。

　　·液體流量可調(diào)，回吸可調(diào)。

全封閉顯影機(jī)參數(shù)

　　支持wafer尺寸：碎片至200mm(8"圓晶)

　　·轉(zhuǎn)速分辨率：±1 RPM

　　·旋涂速度：20-3000rpm(空載)

　　·旋涂加速度：10-10,000rpm/sec(空載)

　　·工藝時間設(shè)定： 0-3,000sec/step，時間設(shè)置精度： 0.1sec

　　·該機(jī)型適用于標(biāo)準(zhǔn)3路顯影機(jī)(1路洗衣液，1路純水，1路氮?dú)?

　　·單步工藝及多步工藝可選，內(nèi)置100組可編輯程序

　　·可根據(jù)客戶需求定制四管路顯影機(jī)或更大基片的顯影機(jī)。

　　設(shè)備配有一路顯影和一路水、一路氣吹功能，并且噴嘴位置可程控移動，實(shí)現(xiàn)自動顯影和清洗作業(yè)。

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