實驗室鍍膜機

簡要描述：實驗室鍍膜機具有外形美觀、結構緊湊、占地面積小、自動化程度高、操作簡單靈活、性能穩定、易維護的特點，尤其適用于實驗室高校使用，客戶可根據自身不同需求選配。

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廠商性質：生產廠家
更新日期：2026-01-14
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產品介紹：

　　實驗室鍍膜機采用磁控濺射及陰極電弧相結合的鍍膜技術，既滿足了對膜層致密性要求，又滿足了高離化率的要求；立式結構，工件卷繞系統垂直安裝在真空室內；多室門設計，陰極安裝在側門上，可裝六套陰極源或離子源，開門即可對靶進行維護或更換；設備可一次性進行工件表面處理及鍍制多層膜，實現多層膜沉積。適用多種金屬或化合物鍍膜材料。

　　實驗室鍍膜機具有外形美觀、結構緊湊、占地面積小、自動化程度高、操作簡單靈活、性能穩定、易維護的特點，尤其適用于實驗室高校使用，客戶可根據自身不同需求選配。

實驗室鍍膜機技術參數：

制方式	7寸人機界面手動自動模式切換控制
加熱方式	數字式功率調整器
鍍膜功能	0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序
最大功率	≤1200W
最大輸出電壓電流	電壓≤12V 電流≤120A
真空度	機械泵 ≤5Pa（5分鐘）分子泵≤10^-3Pa
擋板類型	電控
真空腔室	不銹鋼腔體φ160mm x 160mm
樣品臺	可旋轉φ62 （最大可安裝φ50基底）
樣品臺轉速	8轉/分鐘
樣品蒸發源調節距離	70-140mm
蒸發溫度調節	≤1800℃
支持蒸發坩堝類型	鎢絲藍帶坩堝鎢絲藍鎢舟碳繩
預留真空接口	KF25抽氣口 KF16真空計接口 KF16放氣口 6mm卡套進氣口
可選配擴展	機械真空泵（可抽真空 5分鐘＜5Pa）數顯真空計（測量范圍大氣壓到0.1Pa）分子泵機組（可抽真空20分鐘≤5x10-3Pa）

實驗室鍍膜機

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